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[1]谢鹏,汪建华,王传新,等.射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征[J].武汉工程大学学报,2009,(03):60-63.
　XIE Peng,WANG Jian hua,WANG Chuan xin,et al.Preparation and characteristics of diamondlike carbon films prepared by RFPECVD[J].Journal of Wuhan Institute of Technology,2009,(03):60-63.
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射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征()
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《武汉工程大学学报》[ISSN:1674-2869/CN:42-1779/TQ]

卷:
期数:
2009年03期
页码:
60-63
栏目:
资源与土木工程
出版日期:
2009-03-28

文章信息/Info

Title:
Preparation and characteristics of diamondlike
carbon films prepared by RFPECVD
文章编号:
16742869(2009)03006004
作者:
谢鹏1; 汪建华1; 2; 王传新1; 2; 王升高1; 2; 满卫东1; 2; 熊礼威1; 2
1. 武汉工程大学材料学院，湖北 武汉 430074；
2. 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室，湖北 武汉 430074
Author(s):
XIE Peng1; WANG Jianhua1; 2; WANG Chuanxin1; 2; WANG Shenggao1; 2
1. Wuhan Institute of Technology，School of Materials Science and Engineering，Wuhan 430074，China;
2. Provincial Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials，Wuhan 430074，China
关键词:
射频等离子体; 类金刚石薄膜; 粗糙度; 拉曼光谱; 显微硬度
Keywords:
RFPECVD;  diamondlike carbon films;  roughness;  Raman spectroscopy;  microhardness
分类号:
TB43
DOI:
-
文献标志码:
A
摘要:
采用射频等离子体技术，以CH4和H2为反应气体，在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明，制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑，表面粗糙度极低，平均粗糙度Ra为0.492 nm；薄膜中含有sp2，sp3杂化键，具有典型的类金刚石结构特征；光学透过率比较高，薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.
Abstract:
Diamondlike carbon (DLC) films have been successfully grown on silicon wafer and glass slide substrates by radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RFPECVD) in a H2/CH4 plasma. Surface morphology，microstructure，optical properties and hardness of the films were investigated by Scanning Electron Microscopy (SEM)，Atomic Force Microscopy (AFM)，Raman Spectroscopy (Raman)，Infrared Spectrum (IR) and microhardness instrument. The result shows that the surface of the film is very flat and smooth and surface average roughness is 0.429 nm. The film has sp2，sp3 bond and typical hydrogenated diamondlike characteristics. The film has high optical transparency; its hardness is up to 507.3 kgf/cm2.

参考文献/References:

［1］李振军，徐洮，李红轩，等. 类金刚石薄膜的摩擦学特性及磨损机制研究进展［J］. 材料科学与工程学报，2004，22（5）：774-777.
［2］Erdemir A. Genesis of superlow friction and wear in diamondlike carbon films［J］. Tribology International，2004，37: 1005-1012.
［3］Adhikari S，Omer A M，Adhikary S，et al. Diamondlike carbon thin films grown by largearea surfacewave mode microwave plasma CVD: Effects of stage distance to microwave window ［J］. Diamond and Related Materials，2006，15: 913-916.
［4］Dearnaley G，James H. Biomedical applications of diamondlike carbon (DLC) coatings: A review ［J］. Surface and Coating Technology，2005，200: 2518-2524.
［5］张敏，程发良，姚海军. 类金刚石膜的性质和制备及应用［J］. 表面技术，2006，35（2）：4-6.
［6］黄丽娜，江河清，张治军，等. 乙腈中电化学法制备类金刚石薄膜［J］. 化学研究，2004，15（3）：9-11.
［7］杜景永，张贵锋，李国卿，等. 不锈钢上液相电沉积类金刚石薄膜［J］. 电化学，2007，13（1）：58-61.
［8］代明江，林松盛，侯惠军，等. 用离子源技术制备类金刚石膜研究［J］. 中国表面工程，2005，18（5）：16-19.
［9］白秀琴，李建. 碳离子束注入辅助蒸发低温沉积DLC薄膜研究［J］. 润滑与密封，2007，32（6）：6-8.
［10］Wu J B，Chang J，Li M Y，et al. Characterization of diamondlike carbon coatings prepared by pulsed bias cathodic vacuum arc deposition ［J］. Thin Solid Films，2007，516(24): 243-247.
［11］楚信谱，苟伟，李国卿，等. 射频辉光放电自偏压对类金刚石碳膜结构和性能的影响［J］. 真空科学与技术学报，2006，26：143-145.
［12］Sakamoto Y，Takaya M. Growth of carbon nitride using microwave plasma CVD ［J］. Thin Solid Films，2005，475: 198-201.
［13］Ma G J，Zhang H F，Wu H C，et al. Preparation of diamondlike carbon by PBIIenhanced microwave ECR chemical vapor deposition ［J］. Surface and Coatings Technology，2007，201:6623-6626.
［14］周顺，严一心. 脉冲真空电弧离子镀在不锈钢上沉积类金刚石薄膜的研究［J］. 真空，2005，42（4）：15-18.
［15］黄卫东，詹如娟. 表面波等离子体沉积类金刚石膜结构的Raman光谱和XPS分析［J］. 光谱学与光谱分析，2003，23（3）：512-514.
［16］Shroder R E，Nemanich R J，Matsuki M，et al. Raman scattering from sp2 carbon clusters ［J］. Physical Review B，1992，46(11): 7169-7174.
［17］赵之明，李合琴，顾金宝，等. 射频磁控溅射制备类金刚石薄膜的特性［J］. 真空与低温，2006，12（4）：215-218.

相似文献/References:

[1]熊礼威,崔晓慧,汪建华,等.星形微波等离子体化学气相沉积装置上类金刚石薄膜的制备[J].武汉工程大学学报,2013,(11):53.[doi:103969/jissn16742869201311012]
　XIONG Li\|wei,CUI Xiao\|hui,WANG Jian\|hua,et al.Diamond\|like carbon films deposited on star\|shape microwave plasma enhanced chemical vapor deposition equipment[J].Journal of Wuhan Institute of Technology,2013,(03):53.[doi:103969/jissn16742869201311012]

备注/Memo

备注/Memo:
收稿日期：2008-07-11
基金项目：国家自然科学基金（50572075）；湖北省教育厅2004年创新团队项目；湖北省教育厅Q20081505项目.
作者简介：谢鹏（1984），男，湖北武汉人，硕士研究生.研究方向：低温等离子体与新材料技术.
指导老师：汪建华，男，教授，博士生导师.研究方向：低温等离子体与新材料技术.
更新日期/Last Update: